上院からはさらに良いニュースで、上院は32Mドルを基本的に承認しただけでなく、ニューメキシコ州上院議員のS. P. Domenici 氏の強力な支持もあって、9Mドルを追加した。これは、国立研究所、大学及び産業界の協同作業により、超伝導体の応用開発をさらに加速することを目指している。この追加予算充当は、厚膜テープの進展に焦点を合わせている。
情報通によれば、この資金は厚膜導体R&Dセンター設立のために使われるとされ、設立場所はロスアラモス市の新技術パーク内になるとみられている。もちろん、このロスアラモス国立研究所(LANL)への設置案に対して、他の国立研から、多くの論議が巻き起こることが予想される。
現在のところ、上・下院協議会からいかなる結論がでてくるか、誰も予想できないが、情報通によれば追加予算の相当部分は2001年度内に支出されるだろうという。エネルギー及び水開発予算充当法案は、現在なお審議中で9月中頃まで続き、そこで当予算も最終決定されるだろうということである。
(高麗山)